ICP-AES法分析六氟化钨中的金属粒子

提出了用电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES)法测定高纯六氟化钨中铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、镁、钙、钠、钾、铅及钼等金属元素的含量。六氟化钨极易与空气中的水分发生反应,为此设计了一套与空气隔离的密闭取样系统。在装有待测金属元素的取样器内,先后加入氨水、硝酸、氢氟酸使其溶解并定容,作为ICP-AES分析的待测溶液。在优化的实验条件下,得出各元素的检出限小于0.005mgL-1,方法的回收率在90.5%~104.2%之间,测定值的相对标准偏差(n=11)在3.2%~7.8%之间。最终试验分析结果表明,样品满足高纯六氟化钨技术指标的要求。     

高纯六氟化钨的生产工艺综述

六氟化钨在电子工业中有着广阔的应用前景,本文介绍了目前工业化生产高纯六氟化钨(WF6)的方法,六氟化钨的质量标准及分析检测方法等方面的内容,概述了六氟化钨的发展前景。     

氟化钠吸附氟化氢最佳工艺参数测定

氟化钠（NaP）是一种很好的吸附剂，有着吸附氟化氢（HF）的特性，在电子气体的生产中经常被用来吸附HF，在含氟电子气体的纯化工艺中有着极为重要的应用。本文通过正交实验测定氟化钠在不同的吸附条件下吸附氟化氢杂质的吸附效果，并对实验结果进行方差分析，并评价了各因素对吸附效果的影响。实验表明：NaF对HF有很好的吸附能力，在最佳的操作条件下，几乎可实现完全吸附；适合的吸附温度为20℃-80℃；吸附率随气体流量的增大而降低；压力对吸附率的影响不明显．     

氟化钠吸附氟化氢最佳工艺参数测定

氟化钠(NaF)是一种很好的吸附剂,有着吸附氟化氢(HF)的特性,在电子气体的生产中经常被用来吸附HF,在含氟电子气体的纯化工艺中有着极为重要的应用.本文通过正交实验测定氟化钠在不同的吸附条件下吸附氟化氢杂质的吸附效果,对实验结果进行方差分析,并评价了各因素对吸附效果的影响.实验表明:NaF对HF有很好的吸附能力,在最佳的操作条件下,吸附率达100%;适合的吸附温度为20 ℃～80 ℃;吸附率随气体流量的增大而降低;压力对吸附率的影响不明显.     

高纯六氟化钨的纯化工艺研究

六氟化钨(WF6)在电子工业中有着广阔的应用前景。采用吸附-精馏-鼓泡联用纯化系统对WF6进行纯化。通过吸附除去WF6中的氟化氢(HF)杂质;设计精馏塔进行精馏实验除去其他轻组分杂质,并同时进行鼓泡纯化。研究表明吸附法对于WF6中的HF有很好的去除效果,可将WF6中HF的含量降到1×10-6以下;精馏-鼓泡联用能将气相杂质的含量降到1×10-6以下,经此纯化操作可以得到纯度为99.999%的高纯WF6。将精馏-鼓泡应用于WF6的纯化有着分离效果好、经济性好的优点,适用于工业化的生产。