| 氮分压对TiN离子镀层影响的研究 |
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| 引用本文： | 薛钰芝,郭文有.氮分压对TiN离子镀层影响的研究[J].大连铁道学院学报,1998,19(1):25-29. |
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| 作者姓名： | 薛钰芝 郭文有 |
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| 作者单位： | 大连铁道学院 |
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| 摘 要： | 对工业用高速钢钻头采用空心阴极离子镀和多弧离子镀的ＴｉＮ镀层进行了研究。比较了不同氮分压下镀层色泽，显微硬度；用扫描电镜观察表面形貌及截面象并测定层厚；应用划痕法测定镀层结合强度，实验结果表明离子镀层显微硬度比基体提高２－４倍；不同方法及不同氮分压的镀层表面形貌不同，多弧离子镀层有５－１０μｍ颗粒。截面象中镀层呈层状，层结合强度随氮分压升高而增加。
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| 关 键 词： | 氮分压 离子镀 氮化钛 高速钢 |
The Influence of Divided Pressure of N 2 on TiN Ion Planting |
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| Xue Yuzhi,Lin Jining,Zhou Limei,Li Minghao.The Influence of Divided Pressure of N 2 on TiN Ion Planting[J].Journal of Dalian Railway Institute,1998,19(1):25-29. |
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| Authors: | Xue Yuzhi Lin Jining Zhou Limei Li Minghao |
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| Institution: | Xue Yuzhi Lin Jining Zhou Limei Li Minghao (Dalian Railway Institue) Ge Wenyou (Shenyang No.3 Vacuum Mechane Factory) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | divided pressure ion planting properties |
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