| 不同注入剂量和能量对氧化钛薄膜结构的影响 |
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| 引用本文： | 王锦标,杨苹,李贵才,陈江,孙鸿,黄楠.不同注入剂量和能量对氧化钛薄膜结构的影响[J].西南交通大学学报,2010,45(6). |
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| 作者姓名： | 王锦标 杨苹 李贵才 陈江 孙鸿 黄楠 |
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| 基金项目： | 国家973计划资助项目，国家863计划资助项目，国家自然科学基金资助项目 |
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| 摘 要： | 为研究离子注入以及真空退火对氧化钛薄膜的结构和性能影响,利用非平衡磁控溅射技术,在单晶硅基体上沉积得到了金红石氧化钛薄膜,在此基础上注入磷离子,并进行真空退火处理.研究结果表明:注入剂量和能量的增加,使得氧化钛薄膜的晶体结构损伤程度加剧;真空退火后,未注入与离子注入的薄膜Ram an峰均出现红移和加宽现象,薄膜能带结构因氧缺位及低价钛而产生的变化,导致薄膜的方块电阻逐渐降低,电阻可降至100~200Ω/cm2.
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| 关 键 词： | 氧化钛薄膜 离子注入 能带结构 氧缺陷 方块电阻 |
Effect of Implantation Dose and Energy on Structure of Titanium Oxide Films |
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| WANG Jinbiao,YANG Ping,LI Guicai,CHEN Jiang,SUN Hong,HUANG Nan.Effect of Implantation Dose and Energy on Structure of Titanium Oxide Films[J].Journal of Southwest Jiaotong University,2010,45(6). |
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| Authors: | WANG Jinbiao YANG Ping LI Guicai CHEN Jiang SUN Hong HUANG Nan |
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