全碳反应烧结碳化硅的制备 |
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引用本文: | 刘小磐,赵修建,徐学文,武七德. 全碳反应烧结碳化硅的制备[J]. 湖北汽车工业学院学报, 2003, 17(2): 28-30 |
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作者姓名: | 刘小磐 赵修建 徐学文 武七德 |
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作者单位: | 武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室,湖北,武汉,430070;武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室,湖北,武汉,430070;武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室,湖北,武汉,430070;武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室,湖北,武汉,430070 |
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基金项目: | 国家九五攻关资助项目(96-A10-07) |
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摘 要: | 研究了用PCRBSC方法制备SiC,观察发现用该方法制备的SiC晶粒中存在层状结构。并且由于没预掺α-SiC,反应烧结速度快于RBSC方法,且生成的SiC均为β相,与RBSC方法相比,生成的SiC晶粒更加细小均匀。
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关 键 词: | 反应烧结 层状结构 SiC |
文章编号: | 1008-5483(2003)02-0028-03 |
修稿时间: | 2003-03-07 |
The Manufacture of Pure Carbide Reaction Bond SIC |
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Abstract: | |
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Keywords: | SiC |
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