| 酞菁铜薄膜制备及其光学性能 |
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| 引用本文： | 刘向,刘惠,薛钰芝,王克非.酞菁铜薄膜制备及其光学性能[J].大连交通大学学报,2010,31(6). |
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| 作者姓名： | 刘向 刘惠 薛钰芝 王克非 |
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| 摘 要： | 采用真空蒸发的方法在ITO玻璃上制备了CuPc 薄膜,并用分光光度计(U-3310)测试了四种不同厚度的CuPc薄膜的透射/吸收/反射率随波长变化情况,重点分析了其中的吸收规律.结果显示波段在340～370nm和570～720nm光吸收率基本上在90%左右,在480nm吸收率最低,大部分光都已透射.同时用扫描电子显微镜对薄膜进行了成分分析,对照能谱图可以看出样品中含有碳、氧、铜等元素,与酞菁铜薄膜元素组成成分相符.
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| 关 键 词： | 酞菁铜 半导体薄膜 真空蒸发镀膜 |
Optical Character Study and Preparation on CuPc thin Film |
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| LIU Xiang,LIU Hui,XUE Yu-zhi,WANG Ke-fei.Optical Character Study and Preparation on CuPc thin Film[J].Journal of Dalian Jiaotong University,2010,31(6). |
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| Authors: | LIU Xiang LIU Hui XUE Yu-zhi WANG Ke-fei |
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