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全方位离子注入技术概述
引用本文:陈元儒,蔡光军.全方位离子注入技术概述[J].铁道物资科学管理,1996(4):41-42.
作者姓名:陈元儒  蔡光军
作者单位:西南交通大学
摘    要:等离子体源离子注入(PSⅡ)是80年代末在常规离子注入基础上发展起来的材料表面改性技术。具有设备结构简单、工件注入处理时间短、成本低、全方位注入等特点。本文概述了PSⅡ技术的原理及发展,并对PSⅡ应用的典型实例及所存在的问题作了说明。

关 键 词:离子注入  金属材料  表面改性  热处理
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