| 衬底温度对MgxZn1-xO晶体薄膜表面形貌的影响 |
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| 引用本文： | 余萍.衬底温度对MgxZn1-xO晶体薄膜表面形貌的影响[J].华东交通大学学报,2007,24(2):154-157. |
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| 作者姓名： | 余萍 |
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| 作者单位： | 华东交通大学,基础科学学院物理系,江西南昌,330013 |
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| 基金项目： | 华东交通大学校科研和教改项目 |
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| 摘 要： | 采用低温物理沉积技术在二氧化硅衬底(SiO2/Si(100)生长出了MgxZn1-xO晶体薄膜.用原子力显微镜(AFM)测得不同衬底温度下晶体薄膜的表面平整性,根据测得的数据资料分析衬底温度对薄膜表面粗糙度的影响,发现在250℃时生长得到的MgxZn1-xO薄膜具有最好的平整性,这也和以前生长的MgxZn1-xO薄膜分析结果一致.
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| 关 键 词： | 低温物理沉积 MgxZn1-xO晶体薄膜 表面形貌 |
| 文章编号： | 1005-0523（2007）02-0154-04 |
| 收稿时间： | 2007-01-18 |
| 修稿时间： | 2007-01-18 |
Substrate Temperature Dependent Morphological Properties of MgxZn1-xO Thin Films |
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| YU Ping.Substrate Temperature Dependent Morphological Properties of MgxZn1-xO Thin Films[J].Journal of East China Jiaotong University,2007,24(2):154-157. |
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| Authors: | YU Ping |
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| Institution: | School of Basic Science, East China Jiaotong University, Nanchang 330013, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | REBE MgxZn1-xO thin films surface morphology |
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