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Al 掺杂 T-ZnO 晶须的光致发光及场发射性能
引用本文:范希梅,周祚万,李艳霞,张会广.Al 掺杂 T-ZnO 晶须的光致发光及场发射性能[J].西南交通大学学报,2008,43(6).
作者姓名:范希梅  周祚万  李艳霞  张会广
作者单位:材料先进技术教育部重点实验室,四川成都,610031
摘    要:用丝网印刷法将Al掺杂的T-ZnO晶须制备成薄膜,以研究其结构形貌、光致发光及场发射性能.所有发光谱均由强的紫外光发射(发光中心集中在373~383 nm)和宽的黄绿光发射(发光中心集中在510~540 nm)组成.ZnO薄膜的内部缺陷浓度决定黄绿光发射的强度.掺杂0.5 mol/L的Al样品的紫外光强度最大,场发射性能最好,其开启电场和阈值电场分别达到0.74 V/μm和2.6 V/μm,场增强因子值为30249.

关 键 词:T-ZnO  晶须  场发射性能  紫外光发射  Al掺杂

Field Emission and Photoluminescence Properties of Al-Doped T-ZnO Whiskers
FAN Ximei,ZHOU Zuowan,LI Yanxia,ZHANG Huiguang.Field Emission and Photoluminescence Properties of Al-Doped T-ZnO Whiskers[J].Journal of Southwest Jiaotong University,2008,43(6).
Authors:FAN Ximei  ZHOU Zuowan  LI Yanxia  ZHANG Huiguang
Abstract:
Keywords:T-ZnO  whisker  field emission property  ultraviolet emission
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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