| 中频反应溅射制备工业级AlN薄膜及耐腐蚀性能研究 |
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| 引用本文： | 马海林,范多旺,夏荣斌,俞天智.中频反应溅射制备工业级AlN薄膜及耐腐蚀性能研究[J].兰州铁道学院学报,2020,39(1). |
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| 作者姓名： | 马海林 范多旺 夏荣斌 俞天智 |
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| 作者单位： | 兰州交通大学 光电技术与智能控制教育部重点实验室,兰州 730070;兰州交通大学国家绿色镀膜技术与装备工程技术研究中心,兰州 730070;兰州交通大学 常州研究院,江苏 常州 213034 |
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| 摘 要： | 针对市面上对产品的耐腐蚀性要求,在工业化生产设备上,利用中频反应磁控溅射方法,在不同样件表面上沉积了氮化铝(AlN)薄膜用于产品外观抗腐蚀保护.研究了反应溅射"迟滞回线"现象并结合紫外-可见-红外光谱测算出所制备的工业级AlN薄膜的光学带隙(Eg)为6.3±0.1 eV.利用人造气氛腐蚀试验探讨了AlN薄膜保护下样品的耐腐蚀性能,结果表明:对于塑料装饰件,在经过72 h铜盐加速醋酸盐雾试验(CASS)时才出现被腐蚀痕迹,而镁合金样件在36 h时CASS试验时出现腐蚀,二者均已达到同类工业产品镀铬膜(Cr)保护层的耐腐蚀性能要求,太阳能真空吸热管多层膜涂层经30 h CASS试验后太阳光谱吸收率有所降低但仍达到合格水平.
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| 关 键 词： | 反应溅射 氮化铝 迟滞回线 耐腐蚀 |
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