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微电子工业用超细铜粉的制备和研究
引用本文:刘显杰,徐磊,李代颖,程耿.微电子工业用超细铜粉的制备和研究[J].船电技术,2013,33(7):33-35,38.
作者姓名:刘显杰  徐磊  李代颖  程耿
作者单位:武汉船用电力推进装置研究所,武汉,430064
摘    要:采用化学还原法制备了超细铜粉,以CuSO4为原料,对用NaOH沉淀-葡萄糖预还原-水合肼还原工艺制备的超细铜粉进行了研究。结果表明:两步法添加水合肼时,第一步和第二步添加用量比例为1:4,反应温度为70℃时,得到铜粉粒径最小,为2.484μm,铜粉颗粒形貌近球形,比表面积为1.9m2/g,振实密度为2.5g/cm3。

关 键 词:超细铜粉  制备工艺  化学还原法

Preparation of the Ultrafine Copper in Microelectronics Industry
Liu Xianjie , Xu Lei , Li Daiying , Cheng Geng.Preparation of the Ultrafine Copper in Microelectronics Industry[J].Marine Electric & Electronic Technology,2013,33(7):33-35,38.
Authors:Liu Xianjie  Xu Lei  Li Daiying  Cheng Geng
Institution:(Wuhan Institute of Marine Electric Propulsion, Wuhan 430064,China)
Abstract:
Keywords:
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