光敏剂诱导化学镀镍过程的交流阻抗研究

在光敏剂存在时,光照条件下可发生化学镀反应,阻抗图谱中出现一个容抗环和一个吸附环,吸附是H2PO2^-在反应过程中的吸附。     

军用方舱表面处理化学镀镍工艺改进研究

本文从化学镀镍的反应机理出发，在以次磷酸盐作还原剂的酸性镀液条件下，对军用方舱铝板蒙皮上进行化学镀镍，概述了影响化学镀镍溶液寿命的几个因素，重点讨论了温度对化学镀镍溶液的影响，最后介绍了几种化学镀镍溶液维护和保养的方法。     

Ni—P—SiC化学复合镀层中SiC均匀共析的最佳参数研究

研究了镀复条件及工艺配方对 N-P-SiC 化学复合镀层中 SiC 均匀共析的影响.结果表明,Nj-P 合金基体中 SiC 微粒子均匀共析的最佳条件是:温度87±1℃,搅拌速度600r/min·K,pH=4.8,SiC 平均粒径 D_p=3.5μm,SiC 的添加量8g/L,析出速度12～14μm/h.本文还测定了镀层的显微硬度及磨损量,并用扫描电镜观察了磨损前后的表面形貌和结构.     

大鼠下丘脑培养中β-内啡肽神经元的免疫细胞化学研究

应用种经细胞培养、免疫细胞化学和图像分析技术，研究新生大鼠下丘脑β-内啡肽（β-END）神经元的形态及其体外发育规律。β-END神经元多为梭形双极，可见细胞间接触。培养1d,β-END神经元甚少，3～7d其生长迅速，细胞数量、胞体大小、染色强度和突起长度均达最高峰。培养14d，β-END神经元基本维持在7d时的水平。结果提示，下丘脑β-END神经元在体外培养的第1周内迅速发育趋于成熟，并可维持到第14天左右。