对红外热象仪所测两相流动壁面温度数据的标定

采用红外热像仪来较精确、非接触、连续地测定了管内气-水两相流温度分布.在实际测温中发现:影响红外热像仪测下精度的因素很多.为了获得满足实验要求的温度数据,用精度为0.5%的热电偶测得管外擘若干点的温度,并依据热电偶的测温标定相同表面辐射条件下红外热像仪对应点的温度值,这样可拟合出二者的函数关系,文中用经验证后的关系式,较准确而连续地测定出管道外壁的温度值,据此得到了管内两相流的起沸点及温度分布.     

一种提高热电偶测量精度的方法

本文对热电偶在测温系统中存在的非线性问题进行了分析，给出了非线性校正的方法，提出了测温的精度，并将其成功地应用在燃油退火炉的温度控制系统中。     

摩托车薄膜类标志的材料及性能试验

设计摩托车薄膜类标志，要根据用途的不同确定材料：装饰性大面积彩条（贴花）使用延展性好的PVC薄膜；说明性标签选用油墨表面有覆膜保护的PET薄膜。因材而异才能发挥材料的优良特性，达到预期的装饰效果。通过薄膜标志的性能试验，可有效控制摩托车薄膜类标志的外观质量和理化性能，确保摩托车外观质量水平。     

三种轴角／数字转换电路介绍

介绍了三种适用于自动控制工程领域的轴角／数字转换电路，重点介绍了用于高速、高精度定位系统的轴角／数字转换电路。     

138000m^3薄膜式LNG运输船温度场及其热应力分析

对一艘138 000m3薄膜式LNG运输船的液货舱热维护系统进行了稳态传热分析.计算获得了在8种工况下船体各部分的温度分布,在此基础上对船体结构进行了热应力分析.通过分析比较满载航行工况下的结构应力和温度应力,得出了一些有指导意义的结论.     

退火温度对化学水浴沉积CdS薄膜性能的影响

采用化学水浴沉积法(CBD)制备了CdS薄膜,用扫描电镜(SEM)、能谱(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、分光光度计进行检测.研究了退火温度对CdS薄膜表面形貌、成分、晶体结构和光学性能的影响.研究表明,CdS薄膜为微晶或是非晶态,S/Cd原子比在0.8左右,可见光透过率较高;随着退火温度的升高,薄膜结晶明显,但是透光率下降,禁带宽度范围在2.42～2.59eV之间.     

不同注入剂量和能量对氧化钛薄膜结构的影响

为研究离子注入以及真空退火对氧化钛薄膜的结构和性能影响,利用非平衡磁控溅射技术,在单晶硅基体上沉积得到了金红石氧化钛薄膜,在此基础上注入磷离子,并进行真空退火处理.研究结果表明:注入剂量和能量的增加,使得氧化钛薄膜的晶体结构损伤程度加剧;真空退火后,未注入与离子注入的薄膜Ram an峰均出现红移和加宽现象,薄膜能带结构因氧缺位及低价钛而产生的变化,导致薄膜的方块电阻逐渐降低,电阻可降至100~200Ω/cm2.     

铸造Al-Si合金表面气相沉积TiN薄膜的耐磨性能

采用多弧离子镀技术,对铸造Al-Si合金表面气相沉积TiN薄膜的耐磨性能进行了研究。结果表明,镀有TiN薄膜的铸造Al-Si合金具有比未镀膜铸造Al-Si合金更优异的耐磨性。在相同的磨损条件下,未镀膜试样表面由于发生磨粒磨损,在磨损过程中出现严重的微观切削现象;TiN涂层表面以粘着磨损为主,其磨痕存在剥落,并且随着磨损时间的延长,磨损机制由粘着磨损转为磨粒磨损,未镀膜试样的磨痕宽度几乎是TiN磨痕的2倍。     

直流脉冲磁控溅射制备ITO薄膜及其光电性能

利用直流脉冲磁控溅射法在室温下制备ITO薄膜.通过台阶仪、紫外-可见分光光度计、四探针仪等表征技术,研究了沉积气压、溅射功率,以及Ar/O2流量比等对ITO薄膜沉积速率、光学性能,以及电学性能的影响.研究结果表明,薄膜沉积速率随沉积气压的增大而减小,随功率的增大而增大;方块电阻随气压的增大而增大,随功率的增大而减小;可见光平均透过率主要受O2流量的影响.在沉积气压为0.5Pa,Ar/O2 流量比为20:0,溅射功率为250W,膜厚为200nm时,薄膜的方块电阻为27Ω/□,可见光平均透过率为84.1%.