全文获取类型
收费全文 | 1425篇 |
免费 | 70篇 |
专业分类
公路运输 | 417篇 |
综合类 | 326篇 |
水路运输 | 406篇 |
铁路运输 | 295篇 |
综合运输 | 51篇 |
出版年
2024年 | 25篇 |
2023年 | 64篇 |
2022年 | 67篇 |
2021年 | 96篇 |
2020年 | 76篇 |
2019年 | 88篇 |
2018年 | 27篇 |
2017年 | 47篇 |
2016年 | 42篇 |
2015年 | 44篇 |
2014年 | 61篇 |
2013年 | 62篇 |
2012年 | 78篇 |
2011年 | 89篇 |
2010年 | 82篇 |
2009年 | 94篇 |
2008年 | 62篇 |
2007年 | 47篇 |
2006年 | 53篇 |
2005年 | 47篇 |
2004年 | 44篇 |
2003年 | 39篇 |
2002年 | 22篇 |
2001年 | 26篇 |
2000年 | 17篇 |
1999年 | 12篇 |
1998年 | 14篇 |
1997年 | 6篇 |
1996年 | 6篇 |
1995年 | 13篇 |
1994年 | 6篇 |
1993年 | 5篇 |
1992年 | 9篇 |
1991年 | 13篇 |
1990年 | 3篇 |
1989年 | 7篇 |
1965年 | 2篇 |
排序方式: 共有1495条查询结果,搜索用时 265 毫秒
251.
目前普遍采用的门式刚架斜梁与柱的连接端板及高强度螺栓的计算方法有较大的安全隐患,本文通过理论计算分析,提出改进建议,以便今后可安全合理地应用《门式刚架轻型房屋钢结构技术规程》. 相似文献
252.
以一座不等跨钢桁架梁倾斜桥塔人行斜拉桥为工程背景,介绍该桥跨径布置、主梁构造、桥塔造型等方面的一些独特之处.并利用有限元程序对该桥总体及关键节点进行计算分析,对该类桥型的设计给出了一些建议. 相似文献
253.
254.
255.
256.
257.
城市交通是一个系统工程。在规划与建设地铁与公交线路时,要系统地考虑各自网络节点的连接方便,以及这两者的有效接驳。 相似文献
258.
无线传感器网络技术的引入,为中小型堤坝监测技术的发展提供了新思路。由于无线传感器网络节点采用电池供电,而堤坝环境中的数据监测条件比较苛刻,电源更换相对困难,无线传感器网络节点能耗的优化在延长整个无线传感器网络生命周期过程中显得尤为重要。本文介绍了无线传感器网络中节点能耗的主要分布,并提出了降低节点能量消耗的策略。借助半马尔可夫链理论建立了节点能耗的数学模型,分析了WSN节点的能耗情况,在保证正常数据通信的情况下,通过对节点状态的管理,延长节点的睡眠时间,从而达到降低整个网络能耗的目的。 相似文献
259.
本工程采用一种大跨度异形钢结构连体连接两侧建筑主体框架结构以实现建筑效果,主体结构高度为35.4 m,连体跨度为81.92 m。在“投资-建设-运营”一体化理念指引下,对正交正放网架和正放四角锥网架方案进行综合对比分析,指出钢结构连体采用正交正放网架方案更为合理,建设及运营更具安全性、耐久性。在确定连体结构方案以及连体与主体结构连接方式基础上,采用有限元软件对连体结构变形、受力特点、构件应力、结构整体稳定性和关键节点进行数值分析,依据结果对关键节点进行构造设计,以保证结构设计安全、经济、合理。 相似文献
260.
Metal-oxide-semiconductor field effect transistor (MOSFET) intrinsic gain degradation caused by channel length modulation
(CLM) effect is examined. A simplified model based on Berkeley short-channel insulator-gate field effect transistor model
version 4 (BSIM4) current expression for sub-100 nm MOSFET intrinsic gain is deduced, which only needs a few technology parameters.
With this transistor intrinsic gain model, complementary metal-oxide-semiconductor (CMOS) operational amplifier (op amp) DC
gain could be predicted. A two-stage folded cascode op amp is used as an example in this work. Non-minimum length device is
used to improve the op amp DC gain. An improvement of 20 dB is proved when using doubled channel length design. Optimizing
transistor bias condition and using advanced technology with thinner gate dielectric thickness and shallower source/drain
junction depth can also increase the op amp DC gain. After these, a full op amp DC gain scaling roadmap is proposed, from
130 nm technology node to 32 nm technology node. Five scaled op amps are built and their DC gains in simulation roll down
from 69.6 to 41.1 dB. Simulation shows transistors biased at higher source-drain voltage will have more impact on the op amp
DC gain scaling over technology. The prediction based on our simplified gain model agrees with SPICE simulation results. 相似文献