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利用直流磁控反应溅射技术制备了Ta-N薄膜。利用TEM、XRD研究了薄膜显微组织及结构。研究结果,薄膜晶粒细小,可达到10nm;在一定工艺条件下制备的Ta-N薄膜为多相共存结构;磁控反应溅射制备Ta-N薄膜,沉积压力对薄膜晶粒的显微畸变影响较大,沉积压力降低,晶粒显微畸变增加,导致薄膜中产生较大的微观应力。 相似文献
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