高纯六氟化钨的分析方法综述

本文介绍了六氟化钨的性质、应用及目前的发展状况,针对六氟化钨区别于其它电子气体的特殊性质,综述了对其中所含气体杂质和金属粒子的分析方法。六氟化钨中的气体杂质主要包括:四氟化碳、四氟化硅、二氧化碳、六氟化硫、氧气、氮气和一氧化碳,采用加反吹系统的气相色谱法进行分析;氟化氢杂质用傅立叶红外光谱进行分析;六氟化钨中的金属粒子主要有钙、钾、铁、铜和铬等,可以采用原子发射光谱法、原子吸收光谱法和电感耦合等离子质谱法进行测定。     

高纯六氟化钨的纯化工艺研究

六氟化钨(WF6)在电子工业中有着广阔的应用前景。采用吸附-精馏-鼓泡联用纯化系统对WF6进行纯化。通过吸附除去WF6中的氟化氢(HF)杂质;设计精馏塔进行精馏实验除去其他轻组分杂质,并同时进行鼓泡纯化。研究表明吸附法对于WF6中的HF有很好的去除效果,可将WF6中HF的含量降到1×10-6以下;精馏-鼓泡联用能将气相杂质的含量降到1×10-6以下,经此纯化操作可以得到纯度为99.999%的高纯WF6。将精馏-鼓泡应用于WF6的纯化有着分离效果好、经济性好的优点,适用于工业化的生产。