C2H2作燃料的DF化学激光器燃烧室反应的数值分析

本文选用C2H2作为DF化学激光器燃烧室燃料,采用最小自由能法计算了C2H2-NF3体系不同配比下的燃烧温度和平衡组分,为进行这方面的实验提供了参考。     

风积沙填筑路基施工质量控制

如何利用风积沙填筑路堤(含填高大于10m的路堤)，既达到设计要求．又保证路基稳定，并满足各项技术指标，是工程建设中的一个难题。目前国内尚无成熟的沙漠区路基施工技术规范、施工工艺和方法。文章结合工程实际，阐述了风积沙作为路基填料，其施工质量控制办法。     

Pt/SDB疏水催化剂的制备及其用于水相消氢

将疏水催化剂应用于水相消氢可以提高电解水制氧装置的氧气纯度.本文以聚苯乙烯 - 二乙烯基苯(SDB)树脂为载体制备了高度分散的Pt/SDB疏水催化剂,并将其应用于水相消氢实验中.结果表明,6%的Pt/SDB催化剂消氢活性最高.在H2/O2空速(GHSV)10 000 h-1,水流量30 L/h,温度60 ℃时,氢气消除率达到了80%.采用X射线衍射、X射线光电子能谱、扫描电子显微镜、热重分析仪对制备的催化剂进行了表征.分析发现,制备的催化剂具有良好的疏水性,Pt已被还原为0价态并以高度分散态存在,平均粒径小于5 nm.     

浸渍-还原法制备SPE膜-电极组件的机理分析

为了研究浸渍 - 还原法对制备SPE膜 - 电极组件的影响,对浸渍 - 还原法的2个过程进行了深入的机理分析,通过方程计算出液膜厚度和[Pt(NH3)4]2+离子在液膜内的扩散系数,并得出以下结论:浸渍过程应为液膜扩散,使[Pt(NH3)4]2+在膜内的分布为直线,有利于还原过程中控制晶核生长速度,从而获得微细的铂颗粒;为了在膜的内表层形成精细的铂颗粒,要求离子膜内扩散是还原过程的控制步骤,同时还要求有快速的界面化学反应及较高的还原剂浓度.     

光化学蚀刻在增益发生器加工中的应用前景

增益发生器是化学激光器的关键部件之一。为了提高激光光束的质量和激光器的工作性能,本文从增益发生器的加工工艺出发,简单的介绍了传统工艺及其优势与劣势,在此基础上提出了光化学蚀刻与扩散焊结合的新工艺及其优势。重点总结了光蚀刻工艺效果的影响因素及其解决方案。     

基于层次分析法与模糊综合评价法的公交线路运行效率研究

运用层次分析法与模糊综合评价法相结合的方法对长沙市公交线路运行效率进行评价,为交通监管部门的决策提供依据。     

A parameterized consideration set model for airport choice: an application to the San Francisco Bay Area

Airport choice is an important air travel-related decision in multiple airport regions. This paper proposes the use of a probabilistic choice set multinomial logit (PCMNL) model for airport choice that generalizes the multinomial logit model used in all earlier airport choice studies. The paper discusses the properties of the PCMNL model, and applies it to examine airport choice of business travelers residing in the San Francisco Bay Area. Substantive policy implications of the results are discussed. Overall, the results indicate that it is important to analyze the choice (consideration) set formation of travelers. Failure to recognize consideration effects of air travelers can lead to biased model parameters, misleading evaluation of the effects of policy action, and a diminished data fit.     

等离子体刻蚀对Nafion(R)膜性能的影响

介绍了不同等离子体刻蚀条件对用于电解水制氢领域的Nafion(R)117膜的性能影响.测试经表面刻蚀处理的Nafion(R)膜的含水率、交换容量和电解性能,寻找最适用于Nafion(R)膜表面刻蚀的条件.适宜的刻蚀有效地扩大了Nafion(R)膜和催化电极之间的反应界面,并且使电极形成多孔结构,有利于产生的气体从电极上释放,降低槽电压.但过度刻蚀将破坏膜的离子簇,导致气阻增加,引起槽体性能下降.因此应严格控制射频功率和处理时间.