氟化钠吸附氟化氢最佳工艺参数测定

氟化钠(NaF)是一种很好的吸附剂,有着吸附氟化氢(HF)的特性,在电子气体的生产中经常被用来吸附HF,在含氟电子气体的纯化工艺中有着极为重要的应用.本文通过正交实验测定氟化钠在不同的吸附条件下吸附氟化氢杂质的吸附效果,对实验结果进行方差分析,并评价了各因素对吸附效果的影响.实验表明:NaF对HF有很好的吸附能力,在最佳的操作条件下,吸附率达100%;适合的吸附温度为20 ℃～80 ℃;吸附率随气体流量的增大而降低;压力对吸附率的影响不明显.     

氟化钠吸附氟化氢最佳工艺参数测定

氟化钠（NaP）是一种很好的吸附剂,有着吸附氟化氢（HF）的特性,在电子气体的生产中经常被用来吸附HF,在含氟电子气体的纯化工艺中有着极为重要的应用。本文通过正交实验测定氟化钠在不同的吸附条件下吸附氟化氢杂质的吸附效果,并对实验结果进行方差分析,并评价了各因素对吸附效果的影响。实验表明：NaF对HF有很好的吸附能力,在最佳的操作条件下,几乎可实现完全吸附;适合的吸附温度为20℃-80℃;吸附率随气体流量的增大而降低;压力对吸附率的影响不明显．     

氟化钠涂膜对放射线照射下牙釉质显微硬度的影响

目的体外研究氟化钠涂膜对放射线照射后牙釉质显微硬度的影响。方法正常牙釉质标本随机分为4组,分别是:空白组、单纯照射组、涂膜组、涂膜照射组。采用MH-5型显微硬度计测量处理前、处理后及抗龋实验后牙釉质标本的显微硬度,观察牙釉质显微硬度的变化。结果氟化钠涂膜具有抑制酸蚀后牙釉质显微硬度降低的作用。单纯照射组牙釉质显微硬度值显著低于空白组(P<0.05),而涂膜照射组牙釉质显微硬度值显著高于单纯照射组(P<0.05)。结论在放射线照射前于牙釉质表面涂布氟化钠涂膜能减少釉质结构的破坏,提高其抗酸溶解性。