强流脉冲离子束辐照合金Ti6Al4V的耐蚀性

采用强流脉冲离子束(HIPIB)技术改性合金Ti6Al4V.HIPIB辐照合金试样的相结构不发生变化,但合金基体α-Ti的XRD衍射峰均发生向高角方向的漂移和宽化.辐照合金Ti6Al4V试样的硬度为4.2GPa,硬化深度近600μm.辐照试样在1 mol/L HCl溶液中呈自钝化现象,辐照试样与原始试样的维钝电流密度相当,但自腐蚀电位显著提高.HIPIB辐照具有改善合金Ti6Al4V耐蚀性作用.     

强脉冲离子束辐照金属材料表面改性机理研究

利用强流脉冲离子束(IPIB)技术应用于金属材料表面改性研究中已有的实验结果,多角度地阐述了金属材料表面经IPIB处理后"熔坑"现象的形成、硬度的提高、耐磨性和耐蚀性的改善机理。IPIB与材料表面相互作用产生极大的热—力学效应。部分原子形成烧蚀等离子体,然后在冲击波的作用下形成熔坑;相组成差异以及材料表面微区非平衡也是形成因素。由于IPIB辐照压缩波的影响、相组成变化及晶粒细化、抗氧化性增强,使金属材料在远程范围内硬度提高同时耐磨性改善。IPIB显著的热效应将金属成分纯净化和组织结构均匀化,从而提高材料耐蚀性。     

强流脉冲离子束辐照合金Ti6Al14V的耐蚀性

采用强流脉冲离子束（HIPIB）技术改性合金Ti6Al14V,HIPIB辐照合金试样的相结构不发生变化，但合金基体α-Ti的XRD衍射峰均发生向高角方向的漂移和宽化。辐照合金Ti6Al4V试样的硬义为4.2GPa,硬化深度近600μm，辐照试样在1mol/L Hcl溶液中呈自钝化现象，辐照试样与原始试样的维印电流密度相当，但自腐蚀电位显提高，HIPIB辐照具有改善合金Ti6A14V耐蚀性作用。     

离子束增强沉积TiN薄膜的耐蚀性

采用不同离子束入射方向的离子束增强沉积技术（IBED）在W18Cr4V高速钢表面沉积TiN薄膜.利用阳极极化曲线测试技术研究TiN薄膜在0.5mol/L H2SO4和3％ NaCl溶液中的耐蚀性.结果表明：在0.5mol/LH2SO4溶液中,离子束入射角度为45°时的TiN薄膜的阳极极化曲线呈现自钝化,自腐蚀电位Ecorr由原始高速钢的-400 mV增至-71 mV,致钝电流密度ib和维钝电流密度ip分别比原始试样降低4个和2个数量级,耐蚀性能显著提高.在3％ NaCl溶液中,离子束入射角度分别为0°、30°沉积的TiN薄膜的阳极极化曲线均呈现自钝化-点蚀击穿过程,随着入射角度的增加,自腐蚀电位和点蚀击穿电位升高,入射角度为45°时的TiN薄膜不发生点蚀破坏,自腐蚀电位Ecorr由原始高速钢的-600 mV增至-10 mV,具有高的抗点蚀性能.     

材料表面离子诱导次级电子与离子的机理

本文论述了离子束射入样品材料表面诱导产生次级电子及次级离子的机理.     

强流脉冲离子束辐照合金Ti6Al4V的耐蚀性

采用强流脉冲离子束（HIPIB）技术改性合金Ti6Al4V.HIPIB辐照合金试样的相结构不发生变化,但合金基体α-Ti的XRD衍射峰均发生向高角方向的漂移和宽化.辐照合金Ti6Al4V试样的硬度为4.2 GPa,硬化深度近600μm.辐照试样在1mol/L HCl溶液中呈自钝化现象,辐照试样与原始试样的维钝电流密度相当,但自腐蚀电位显著提高.HIPIB辐照具有改善合金Ti6Al4V耐蚀性作用.     

机车车辆焊割工艺(续二)

10什么是电子束焊?有何特点与用途? 电子束焊属高能焊,是当今提倡发展的三束技术(电子束、激光束、等离子束)之一.     

离子注入对CuxS薄膜特性的影响

讨论了CuxS薄膜经氮离子注入后对薄膜的特性影响，铜硫化合物薄膜是经两次蒸发制备在玻璃上。实验发现氮离子束注入引起了CuxS薄膜中的铜与硫成分的改变，很明显的观察到样品中的铜对硫的比值随注入离子束强度的增加而变大。