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| CVD法氮化硅及氮化钛涂层试验研究 | |
| 引用本文： | 张智华,胡海泉.CVD法氮化硅及氮化钛涂层试验研究[J].汽车工艺与材料,1996(2):9-11. |
| 作者姓名： | 张智华 胡海泉 |
| 摘 要： | 用ＣＶＤ法在三种基材上蒸镀氮化硅及氮化钛，同时在镀层交界处镀过渡金属。经试验表明，以氮以硅为主蒸镀材，炉内温度控制在１２５０℃，并选定Ｈ２气导入量为２７００ｃｍ＾３／ｍｉｎ，可获得较理想的镀层。 |
| 关 键 词： | CVD法 陶瓷 氮化硅涂层 氮化钛涂层 |
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