| 陶瓷Al4C3薄膜厚度依赖的场发射特性研究 |
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| 引用本文： | 梁英.陶瓷Al4C3薄膜厚度依赖的场发射特性研究[J].广州航海高等专科学校学报,2019,27(1):60-64. |
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| 作者姓名： | 梁英 |
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| 作者单位： | 广州航海学院 基础部,广东 广州,510725 |
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| 基金项目： | 广东省自然基金项目;广州航海学院创新强校工程;广州航海学院创新强校工程 |
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| 摘 要： | 采用简单的热化学输运方法,通过控制生长温度和时间,在钨箔上制备了不同厚度的Al_4C_3薄膜.通过扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和拉曼光谱分析等手段对样品的形貌和结构进行了系列表征.场电子发射测试表明,厚度为300 nm、600 nm和1 000 nm的Al_4C_3薄膜的开启电压分别为4.2 V/μm、5.8 V/μm和8.6 V/μm(发射电流10 A/cm^2).这种现象可归因于绝缘Al_4C_3层的厚度和空间电荷效应引起的电子输运能力差异.
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| 关 键 词： | Al4C3薄膜 化学气相沉积 场电子发射特性 |
Study on Thickness-dependent Field Emission Characteristics of Ceramic Al4C3 Thin Films |
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| LIANG Ying.Study on Thickness-dependent Field Emission Characteristics of Ceramic Al4C3 Thin Films[J].Journal of Guangzhou Maritime College,2019,27(1):60-64. |
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| Authors: | LIANG Ying |
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| Institution: | (Department of Basic Course,Guangzhou Maritime University,Guangzhou Guangdong 510725,China) |
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| Abstract: | LIANG Ying(Department of Basic Course,Guangzhou Maritime University,Guangzhou Guangdong 510725,China) |
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| Keywords: | Al4C3 thin films chemical vapor deposition field electrons emission property |
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