|
|||||
|
|
| 高纯超细SiO2粉末制备工艺研究 | |
| 作者姓名： | 王智 吴重庆 赵宏静 |
| 摘 要： | 对高温ＣＶＤ和ＬＩＣＶＤ制备高纯钠米ＳｉＯ２粉末工艺进行了理论分析，并通过系统的实验研究，制取了大量极细颗粒ＳｉＯ２粉末。对制备的粉末进行透射电分析，比较了两种工艺的优劣。 |
| 关 键 词： | 高温 CVD LICVD 纳米粉末 二氧化硅 |
| 本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录！ | |
|
||||||||||||||
|
||||||||||||||
|
||||||||||||||
|
|
|
|
| 设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏 |
|
Copyright©北京勤云科技发展有限公司 京ICP备09084417号 |