不同氧压下脉冲激光沉积ZnO薄膜的研究 |
| |
作者姓名: | 吕珂 |
| |
作者单位: | 华东交通大学基础学院物理系,江西,南昌,330013 |
| |
摘 要: | 本文采用脉冲激光,在Si(001)衬底上生长ZnO薄膜,利用X射线衍射(XRD),原子力显微镜(AFH)等测试手段研究了不同氧气压力所生长的ZnO薄膜结构特征。研究表明:氧压不同制备的ZnO薄膜质量也不同。在不同的氧气压力下(0Pa~50Da)生长ZnO薄膜,XRD表明10Pa的氧压时有较强的(002)衍射峰和较小的半高宽。
|
关 键 词: | ZnO薄膜 脉冲激光沉积 原子力显微镜 X射线衍射 |
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录! |
|