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| FeSiAl合金磁性薄膜的制备与研究 | |
| 引用本文： | 张榕,裔国瑜,任洪梅,阎明.FeSiAl合金磁性薄膜的制备与研究[J].上海海运学院学报,2003,24(4):378-380,384. |
| 作者姓名： | 张榕 裔国瑜 任洪梅 阎明 |
| 摘 要： | 用X-射线衍射，扫描电子显微镜研究了直流磁控溅射法制备的FeSiAl合金薄膜。用振动样品磁强计测量了薄膜的磁性能。主要研究了热处理对薄膜的结构和磁性能的影响。结果表明随着退火温度的升高，薄膜的X衍射峰(220)逐步尖锐化，矫顽力不断减小，磁性能有了较大的提高。 |
| 关 键 词： | 铝硅铁薄膜 X射线衍射 磁性薄膜 直流磁控溅射 热处理 薄膜结构 |
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