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高压离子轰击源控制与保护研究
引用本文:邓志杰.高压离子轰击源控制与保护研究[J].兰州铁道学院学报,1998,17(1):43-46.
作者姓名:邓志杰
摘    要:介绍了真空镀膜设备中高压离子轰击源的电路构成以及在“离子清洗”工艺过程和“离子聚合”工艺过程的工作原理,同时论述了对于过流现象所采取的一些软,硬件保护措施。

关 键 词:真空镀膜  高压离子轰击源  过流保护
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