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高性能微波暗室设计中的技术考虑
引用本文:宋东安,易学勤.高性能微波暗室设计中的技术考虑[J].舰船科学技术,2005,27(3):77-80.
作者姓名:宋东安  易学勤
作者单位:中国船舶重工集团公司第七○一研究所,国防科技电磁兼容性重点实验室,湖北,武汉,430064
摘    要:在高性能微波暗室技术设计中,由于静区指标较高,采用一般的几何光学技术不能进行准确计算,因此需采用几何绕射理论技术。本文对该技术在暗室设计中的应用进行了初步探讨。此外,在以前分析计算吸波材料的反射率与入射角的关系时,常采用性线插值法,这会引入较大的设计误差。本文运用电磁场理论推导出了反射率与入射角之间的函数关系。通过对比分析表明,新的函数关系可以消除设计误差。

关 键 词:微波暗室  静区指标  几何绕射理论  反射率
文章编号:1672-7649(2005)03-0077-04

The technologies for use in design of anechoic chamber with higher quality
SONG Dong-an,YI Xue-qin.The technologies for use in design of anechoic chamber with higher quality[J].Ship Science and Technology,2005,27(3):77-80.
Authors:SONG Dong-an  YI Xue-qin
Abstract:
Keywords:
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