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| 脉冲等离子溅射的应用 | |
| 引用本文： | W.D.Sproul,杨晴,许明.脉冲等离子溅射的应用[J].铁道机车车辆工人,2005(1):27-31. |
| 作者姓名： | W.D.Sproul 杨晴 许明 |
| 摘 要： | 脉冲等离子在溅射方面的应用在过去的几年里日渐盛行。最近，一种新的脉冲等离子技术已被引入到溅射领域。高能脉冲磁控管溅射(HPPMS)可使能量极大的脉冲(可达几兆瓦)在短时间内击中目标，导致溅射物的高度电离。电离物可用于改进镀膜的结构和性能。试验的供能装置是为了更多地了解高能脉冲磁控管溅射而设计制造的，它可产生峰值功率不大于3kW、宽度为100～150μs的脉冲。脉冲单击的重复率为500Hz， |
| 关 键 词： | 脉冲等离子溅射 磁控管溅射 薄膜涂层工艺 电弧控制 |
| 文章编号： | 1007-6042(2005)01-0027-04 |
| 修稿时间： | 2004年8月21日 |
Pulsed plasmas for sputtering applications |
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