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真空镀膜工艺概述(续)
作者姓名:宜桀
摘    要:(2)溅射式喷镀法(a)溅射原理大气中存在着10的19次方个每立方厘米的氧气和氮气等气体分子,它们以500米/秒的速度运动着。运动速度加快后其对物体的冲击力也将增强,并有可能侵入到固体的内部。侵入固体内的原子(或分子)将会与形成固体的原子发生冲突,这种原子问的冲突会诱发二次的冲突。

关 键 词:真空镀膜工艺 运动速度 气体分子 喷镀法 冲击力 原子 溅射 固体
文章编号:24087937
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