宽禁带功率器件键合缓冲技术的可靠性分析 |
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作者单位: | 中国科学院微电子研究所高频高压器件与集成研发中心,北京 100029;广东省科学院半导体研究所,广东广州 510640 |
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基金项目: | 广东省科学院建设国内一流研究机构行动专项资金项目 |
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摘 要: | 在电力电子应用中,性能优于硅功率器件的宽禁带功率器件得到广泛关注。然而,传统功率器件封装中的芯片顶部的电气互连结构现在已成为限制宽禁带功率器件寿命的主要因素。因此,有必要通过使用键合缓冲技术将铜键合线、焊带和引线框架来代替铝键合线作为芯片顶部的电气互联以满足宽禁带功率器件在高温工作条件下的要求。文章回顾了不同键合缓冲技术和金属键合材料在功率循环测试中的可靠性表现。其中,因瓦合金键合缓冲材料与铜键合线的结合在众多键合材料中显示出最强大的功率循环测试能力。失效分析显示,宽禁带功率器件封装的薄弱点已经从芯片顶部的键合材料变为氧化铝陶瓷衬底或芯片上表面的铝金属层。
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关 键 词: | 键合缓冲 可靠性 碳化硅器件 氮化镓器件 封装 |
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