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PCVD法沉积TiN膜若干问题的研究探讨
作者姓名:
张海涛 杨兴宽
摘 要:
探讨了PCVD法沉积TiN膜器壁副产物的成分及形成机制,并提出了解决办法。同时对脉冲、直流PCVD沉积TiN膜中的氯含量、膜的生长、晶粒大小及膜结构进行了对比分析,认为脉冲PCVD比直流PCVD更适合于TiN膜的沉积。
关 键 词:
脉冲PCVD 直流PCVD 薄膜 TiN膜 沉积 PCVD法
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