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烧结前钼片的清洁处理
作者单位:
半导体器件室
摘 要:
钼片的清洁度是影响烧结沾润质量的重要因素,因此在烧结前必须对钼片进行严格的清洁处理。一般都是用10%的氢氧化钠与双氧水的混合腐蚀液进行腐蚀。为了腐蚀能均匀一致,腐蚀前还需进行去油。典型的工艺是:先将钼片用去污粉擦洗,然后超声去油,丙酮一次10分钟,四氯化碳两次,每次10分钟,甲苯两次,每次5分钟,丙酮两次,每次5分钟,无水乙醇一次5分钟,最后用10%氢氧化钠与双氧水腐蚀至光亮。
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